特許
J-GLOBAL ID：200903029526314232
光照射方法並びに光学的情報記録媒体及びそれを用いた記録方法と再生方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-204782
公開番号（公開出願番号）：特開平5-028498
出願日： 1991年07月19日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：
【要約】【目的】 照射する光スポットあるいは光学パタンよりも高分解能、高解像、高コントラストで対象物に露光、記録再生、あるいは焼き付け等を行い、光学的情報記録媒体の記録密度の向上、高集積LSI回路等の製造を可能にする。【構成】 対象物1に近接して、光強度あるいは露光量の増加に伴って照射光に対する透過率が増加するコントラスト増加層3を設ける。照射光スポット4の強度分布5の周辺部では層3によって多く吸収され、強度分布5の周辺部では少しの吸収となる。従って、元の強度分布5よりも狭い強度分布6によって対象物1を照射することが可能となる。
請求項（抜粋）：
光記録膜等の対象物に高分解能で光スポットあるいは光学パタンとして光を照射する方法であって、光強度あるいは露光量の増加に伴なって照射光に対する透過率もしくは反射率が増加する光吸収性のコントラスト増加層を前記対象物に近接して設け、前記コントラスト増加層を通して前記対象物に対して光照射することを特徴とする光照射方法。
IPC (3件)：
G11B 7/00
, G02B 27/00
, G11B 7/24 536
