特許

J-GLOBAL ID：200903029527172490

産業用フォトン発生装置

発明者： 横山 稔 ,  河合 正之 ,  濱田 信治 ,  山崎 鉄夫 ,  山田 家和勝
出願人/特許権者： 工業技術院長 ,  川崎重工業株式会社
代理人 (2件)： 富田 幸春 (外1名) ,  富田 幸春
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-308374
公開番号（公開出願番号）：特開平8-148299
出願日： 1994年11月18日
公開日（公表日）： 1996年06月07日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】産業用フォトン発生装置をリニアック型とリング型のマイナス点を相互に補いながら、紫外域からサブミリ波までの広帯域の高輝度光を発生させる。【構成】電子ビーム周回軌道11内に入射器としてのリニアック型の電子ビーム発生装置9をオンアクシスのセプタム電磁石21、オフアクシスのセプタム電磁石22を内側に配設して接続し、同一アンジュレータ(ウイグラー)2を用いて紫外域からサブミリ波までの広帯域の高輝度光を発生させる小型でコンパクトで低コストで操作性の良い産業用フォトン発生装置1' とする。【効果】同一のアンジュレータ(ウイグラー)を利用し、電子ビーム周回軌道内に入射器のリニアックを配設したことにより、小型でコンパクトな産業用フォトン発生装置を構築出来、運転操作性が良くメンテナンス性も良く、しかも、紫外域からサブミリ波まで広帯域の高輝度光を発生させることが出来る。

請求項（抜粋）：

アンジュレータ(ウイグラー)を有するFEL,SR光発生用リング型加速器の産業用フォトン発生装置において、電子蓄積リングに対し別体に配設した入射器からの低エネルギーの電子と電子蓄積リングに蓄積した高エネルギーの電子を共に上記同一のアンジュレータ(ウイグラー)を通過させて高輝度光の発生を図るようにされていることを特徴とする産業用フォトン発生装置。