位置合わせ方法、アライメントマークの形成方法、露光装置及び露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：平木祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-089988
公開番号（公開出願番号）：特開平11-288867
出願日： 1998年04月02日
公開日（公表日）： 1999年10月19日
要約：

【要約】【課題】 X方向とY方向をそれぞれ別々の層に形成されたアライメントマークを用いて位置合わせする場合において、スループットの向上を図る。【解決手段】X方向アライメントマーク40aとY方向アライメントマーク41aとを基板12上の異なる層で、かつ同一撮像範囲内に入るように互いに近接して形成し、X方向計測とY方向計測とを同時に行うするようにした。

請求項（抜粋）：

基板に形成した第1の方向のアライメントマークと前記第1の方向と直交する第2の方向のアライメントマークを検出して基板の位置合わせを行う位置合わせ方法において、前記第1の方向のアライメントマークと前記第2の方向のアライメントマークは前記基板上の異なる層で、かつ同一撮像範囲内に入るように互いに近接して形成されており、前記第1の方向のアライメントマークと前記第2の方向のアライメントマークとを検出して基板の位置合わせを行なうことを特徴とする位置合わせ方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 9/00 , H01L 21/68

FI (5件)：

H01L 21/30 502 M , G03F 9/00 H , H01L 21/68 F , H01L 21/30 514 C , H01L 21/30 525 P

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