特許
J-GLOBAL ID：200903029533298595
液塗布装置及び湿式現像装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
黒田 壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-353330
公開番号（公開出願番号）：特開平7-199668
出願日： 1993年12月31日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：
【要約】【目的】 感光体1と現像ローラ52とスクイズローラ57とで現像液が滞留しえる領域200を形成して、現像器ケーシング51で現像液が存在する領域をほぼ、この領域200に限ることにより、現像液の現像器での揮発量を少なくするとともに、現像液循環量を少なくする。【構成】 図1(b),(c)に示すように現像ローラ52及びスクイズローラ57を感光体1との間隔が1mm以下、両ローラ52,57間隔が1mm以下になるよう配設し、かつ、両ローラ52,57を対向部で表面が逆向きに移動するよう駆動する。これにより三者で囲まれる領域200に現像液を滞留させ、感光体への幅方向で均一な現像液供給を可能にし、図1(a)に示す従来例と異なり感光体1への幅方向で均一な現像液供給のために供給現像液量を大目に設定する必要を無くす。
請求項（抜粋）：
液塗布対称物の表面に塗布液を供給する液塗布装置において、第1回転体及び第2回転体を、該表面、該第1回転体表面及び該第2回転体表面で塗布液が滞留し得る領域を形成できるように、該表面に接近し、かつ互いに接近するように配置し、かつ該第1回転体及び第2回転体を互いに対向部で逆方向に表面が移動するように回転駆動するとともに、該領域への塗布液を供給する液供給手段を設けたことをことを特徴とする液塗布装置。
IPC (2件)：
G03G 15/10
, G03G 15/10 112
