特許
J-GLOBAL ID：200903029534328307
ガス純化装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-255074
公開番号（公開出願番号）：特開平5-096124
出願日： 1991年10月02日
公開日（公表日）： 1993年04月20日
要約：
【要約】【目的】 物理吸着や化学吸着を応用することなく、気体の励起・放電を利用し、特に純化処理と発光を検出して低濃度の不純物を分解除去することができるガス純化装置を提供する。【構成】 半導体製造における成膜技術において、Heガス中の水分を除去するガス純化装置であって、不純物ガスを不活性化または安定な無害化ガスに分解する放電管1と、純化すべき導入気体にエネルギーを与える共振器2と、分解された気体の純化を連続モニターする光検出器3とから構成され、成膜処理における雰囲気中の水分による膜質や界面状態への影響が抑制されている。そして、Heガス中に存在する低濃度のH2 O分子が分解・不活性化され、さらに不純物が分離して除去され、高純度に純化された気体が得られる。
請求項（抜粋）：
高純度な気体を必要とする装置およびその配管系に用いられるガス純化装置であって、純化すべき気体にエネルギーを与える励起手段と、該励起手段による励起状態において前記気体に含まれる不純物を不活性化または安定な無害化ガスに分解する分解手段とを備え、導入される気体の不純物を除去して高純度に純化することを特徴とするガス純化装置。
IPC (3件)：
B01D 53/32
, C23C 16/44
, H01L 21/285
