特許

J-GLOBAL ID：200903029535191224

アセト酢酸誘導体、その製法及び用途

発明者： 武元 一樹 ,  上谷 保則
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-332814
公開番号（公開出願番号）：特開平11-158118
出願日： 1997年12月03日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 樹脂成分と光酸発生剤を含有する化学増幅型レジストに添加した場合に酸増殖作用を示す新規な化合物を提供し、さらにこの化合物を酸増殖剤として用い、特に高い感度を示す化学増幅型レジスト組成物を提供する【解決手段】 下式(I)で示されるアセト酢酸誘導体が提供される。式中、Rは低級アルキルを表し、XはCO又はSO2 を表し、mは1から8の整数を表す。この化合物は、-X-CmF2m+1 に相当する部分が水素である化合物をペルフルオロアルキルスルホニル化剤又はペルフルオロアルキルカルボニル化剤と反応させることにより、製造できる。また、樹脂成分及び光酸発生剤に加えて、式(I)のアセト酢酸誘導体を酸増殖剤として含有するレジスト組成物も提供される。

請求項（抜粋）：

式(I)(式中、Rは低級アルキルを表し、XはCO又はSO2 を表し、そしてmは1〜8の整数を表す)で示されるアセト酢酸誘導体。

IPC (4件)：

C07C 69/716 ,  C07C309/65 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601

FI (4件)：

C07C 69/716 Z ,  C07C309/65 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601