特許
J-GLOBAL ID:200903029537296767
走査プローブ・ベースのリソグラフィ位置合わせ
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
岡田 次生
, 伏見 直哉
, 平野 ゆかり
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-575710
公開番号(公開出願番号):特表2005-512304
出願日: 2002年03月21日
公開日(公表日): 2005年04月28日
要約:
より高精度なリソグラフィ法およびシステムを提供する本明細書に述べられるリソグラフィ・プロセスは、基板上に設けられた位置合わせマークとの走査プローブの相互作用に基づいて、この位置合わせマークに対してパターン型を位置合わせするものである。この方法により、このパターン型は、原子の精度(例えば、約10nm以下)で揃えられることがあり、それにより、ナノメートル・スケールのデバイスを製作することができる。このリソグラフィ法によって形成されるデバイス、および、このような位置合わせを用いるリソグラフィ法を実施するシステムも記述される。
請求項(抜粋):
基板上に設けられた位置合わせマークとの走査プローブの相互作用に基づいて、該位置合わせマークに対してパターン型を位置合わせするステップを有するリソグラフィ法。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/30 502D
, G03F9/00 H
Fターム (3件):
5F046AA28
, 5F046FA20
, 5F046FB20
引用特許:
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