特許
J-GLOBAL ID：200903029564001647

走査型露光装置及び露光方法

発明者：
谷口 哲夫

谷口 哲夫 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 川北 喜十郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-224813
公開番号（公開出願番号）：特開平9-050955
出願日： 1995年08月09日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：
【要約】【課題】 実際の露光に前に、マスク上のマークパターンの投影像の位置若しくは位置ずれを検出する機構を備えた走査型露光装置を提供する。【解決手段】 マスクR上の照明領域に対してマスクRを走査するマスクステージRSTと、マスクR上のパターンの像を感光基板W上に投影する投影光学系PLと、照明領域と投影光学系PLに関して共役な露光領域に対して感光基板Wを走査する基板ステージWSTとを備えた走査型露光装置である。受光部1を基板ステージWST上に備え且つマスクR上のマークパターンの像を光電検出する撮像器3と、前記照明領域に対して前記マークパターンを走査するのに同期して前記受光部を前記露光領域に対して走査している間に撮像器3から出力される信号を合成する合成器4とを備える。合成器4の出力に基づいてマークパターンの像の位置または位置ずれを検出する。位置ずれは、走査型露光装置に特有のステージの移動等により発生する位置ずれである。
請求項（抜粋）：
マスク上の照明領域に対して該マスクを走査するマスクステージと、前記マスク上のパターンの像を感光基板上に投影する投影光学系と、前記照明領域と前記投影光学系に関して共役な露光領域に対して前記感光基板を走査する基板ステージとを備えた走査型露光装置において、前記基板ステージ上に受光部を備え且つ前記マスク上のマークパターンの像を光電検出する受光手段と、前記照明領域に対して前記マークパターンを走査するのに同期して前記受光部を前記露光領域に対して走査している間に前記受光手段から出力される信号を合成する合成手段とを備え、前記合成手段の出力に基づいて前記マークパターンの像の位置または位置ずれを検出することを特徴とする上記走査型露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (4件)：
H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 B ,  H01L 21/30 516 A
引用特許：
出願人引用 (5件)
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