薄膜形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小鍜治明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-011729
公開番号（公開出願番号）：特開平8-196983
出願日： 1995年01月27日
公開日（公表日）： 1996年08月06日
要約：

【要約】【目的】液状物質を微小ノズルより吐出して基板に付着させ、付着した液状物質を乾燥、硬化させて薄膜を形成する方法に関し、ランニングコストの安価で、しかも高速処理のできる薄膜形成方法を提供することを目的とする。【構成】複数の微細な液体吐出用ノズル12を有するインクジェットヘッド11と基板10とを第1の相対速度で回転させ、基板10表面の全面上に液体をほぼ均一に塗布し第1の塗布状態を実現した後、第1の相対速度より大きい第2の相対速度で回転させ、第1の塗布状態から過剰に塗布された塗布液体を飛散させながら第1の塗布状態より塗布状態の均一化がなされた第2の塗布状態を有する薄膜を形成する。

請求項（抜粋）：

液体を吐出する複数の微細な液体吐出用ノズルを有するインクジェットヘッドと前記液体が付着される基板とを、前記液体が前記基板の表面上に付着されるに足る第1の相対速度で回転させ、前記基板の表面の略全面上に前記液体を略均一に塗布し第1の塗布状態を実現する塗布工程と、前記塗布工程後、前記第1の相対速度より大きい第2の相対速度で回転させ、前記第1の塗布状態から過剰に塗布された塗布液体を飛散させるとともに前記第1の塗布状態より塗布状態の均一化がなされた第2の塗布状態を有する薄膜を、前記基板上に形成する工程とを有する薄膜形成方法。

IPC (2件)：

B05D 1/40 , B05C 11/08

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭59-112872
特開昭57-027168
特開昭58-170565

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