特許

J-GLOBAL ID：200903029582123970

微細沈殿ケイ酸及びその製造法

発明者： 赤崎 忠行 ,  河野 昭義 ,  中村 修 ,  高菅 和宏
出願人/特許権者： 日本シリカ工業株式会社
代理人 (1件)： 本多 小平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-334661
公開番号（公開出願番号）：特開平6-183721
出願日： 1992年12月15日
公開日（公表日）： 1994年07月05日
要約：

【要約】【目的】 透明性に優れた樹脂用充填剤、粘度調整剤、光沢に優れた塗料用充填剤、等として有用な新規な沈殿ケイ酸を提供する。【構成】 BET比表面積100〜600m2 /g、コールターカウンター法により測定した平均二次粒子径が0.1〜1.5μm、1.0μm以下の粒子が50wt%以上であり、8.0μm以上の粒子が存在しない沈殿ケイ酸。

請求項（抜粋）：

BET比表面積100〜600m2 /g、コールターカウンター法により測定した平均二次粒子径が0.1〜1.5μm、1.0μm以下の粒子が50wt%以上を有し、かつ8.0μm以上の粒子が存在しないことを特微とする沈殿ケイ酸。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特公昭62-012171
  
• 特開平3-031344