特許
J-GLOBAL ID：200903029584108855
薬液塗布方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-033065
公開番号（公開出願番号）：特開平5-234870
出願日： 1992年02月20日
公開日（公表日）： 1993年09月10日
要約：
【要約】【目的】 フォトレジスト塗布によるウエハ裏面への異物の付着を防止する。【構成】 異物付着検出装置20により、ウエハ11の裏面の反射光の強度をフォトレジスト塗布前と、裏面洗浄後にそれぞれ走査測定し、その結果をマイクロコンピュータ21に記録して、フォトレジスト塗布前と裏面洗浄後の反射光の強度を比較して、ウエハ11の裏面に対する異物の付着の有無を判断する。ウエハ11の裏面に異物の付着がない場合には、ウエハ11を次の工程に進める。ウエハ11の裏面に異物の付着がある場合には、再度裏面洗浄をする。これにより、フォトレジスト塗布後のウエハ裏面を清浄に保つことができ、半導体装置の品質と歩留りを向上させることができる。
請求項（抜粋）：
板状の物体の表面に薬液を回転塗布する工程と、前記薬液塗布後に前記板状の物体の裏面に異物の付着を検出する工程を有することを特徴とする薬液塗布方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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