特許
J-GLOBAL ID：200903029594512700
ゴム変性スチレン系樹脂組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-251653
公開番号（公開出願番号）：特開平11-080467
出願日： 1997年09月17日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：
【要約】【課題】 耐衝撃強度及び剛性において優れ、かつ射出成形時に表面光沢、表面外観特性に優れるゴム変性スチレン系樹脂組成物を提供する。【解決手段】 軟質成分粒子が特定の平均粒子径の単一オクルージョン構造を有し、軟質成分の架橋したゴム分率が特定の範囲にあり、かつ架橋していないゴムの水素核スピン-スピン緩和時間が特定の範囲にあるゴム変性スチレン系樹脂組成物である。
請求項（抜粋）：
スチレン系重合体にゴム状重合体を分散させて成るスチレン系樹脂組成物であって、下記(A)〜(D)の条件を満足することを特徴とするゴム変性スチレン系樹脂組成物。(A)軟質成分粒子がスチレン系樹脂のみから成る単一連続相である核部分及び該核部分を内包するゴム状重合体から成る殻部分により構成されたコア-シェル構造(単一オクルージョン構造)を有する。(B)軟質成分粒子の平均粒子径が0.1μm〜1.0μmである。(C)下式によって定義される軟質成分粒子のゴム相における架橋したゴムの分率が60〜80%である。架橋したゴムの分率(%)=F<SB>S</SB>/(F<SB>S</SB>+F<SB>L</SB>)(F<SB>S</SB>、F<SB>L</SB>は、それぞれゴム変性スチレン系樹脂組成物を<SP>1</SP>H-NMR(プロトン核磁気共鳴分析法)で分析して得られるFID(Free Induction Decay:自由誘導減衰)強度曲線を水素核スピン-スピン緩和時間(T<SB>2</SB>)が長い成分(L)と短い成分(S)の2個の成分に分解したときの各成分のFID強度である。ただしSの水素核スピン-スピン緩和時間(T<SB>2S</SB>)<Lの水素核スピン-スピン緩和時間(T<SB>2L</SB>)であるものとする。)(D)ゴム変性スチレン系樹脂組成物を<SP>1</SP>H-NMRで分析して得られるFID強度曲線において、軟質成分粒子中のゴム相に対応するFID成分の時間対FID強度曲線を、水素核スピン-スピン緩和時間(T<SB>2</SB>)の異なる2個の成分に分解したとき、これら2成分のうち水素核スピン-スピン緩和時間の長い成分(L)の水素核スピン-スピン緩和時間(T<SB>2L</SB>)が2.5ms〜20.0msの範囲である。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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