特許

J-GLOBAL ID：200903029595177905

光ディスク用原盤の製造方法

発明者： 橋口 強
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 園田 敏雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-124200
公開番号（公開出願番号）：特開2002-056581
出願日： 2001年04月23日
公開日（公表日）： 2002年02月22日
要約：

【要約】【課題】フォトレジストを均一に塗布したガラス基板を、所定のフォーマットで光変調されたレーザー集光ビームで露光してプリピットや案内溝などの潜像をフォトレジスト上に作成する光ディスク原盤の製造方法について、露光スポットのビーム径よりも小さいピット、細い案内溝の形成を可能にすること。【解決手段】ガラス基板上に、後述のフォトレジストと混合しない材料を用いた層(下層)を形成する工程と、その上にフォトレジスト層(上層)を形成する工程と、上層フォトレジスト層をレーザービームを集光した第1の光で露光し、潜像を作る工程と、現像、純水洗浄によって上層に露光によるパターンを形成する工程と、下層に上層パターンをマスクとしたパターンを形成させる工程と、マスクとした上層を剥離する工程を備えた光ディスク原盤の製造方法を前提として、下層にパターンを形成する時に、上層マスク層側から波長320nm以下の第2の光を照射すること。

請求項（抜粋）：

ガラス基板上に、フォトレジストと混合しない材料を用いた層(下層)を形成する工程と、その上にフォトレジスト層(上層)を形成する工程と、上層フォトレジスト層をレーザービームを集光した第1の光で露光し、潜像を作る工程と、現像、純水洗浄によって上層に露光によるパターンを形成する工程と、下層に上層パターンをマスクとしたパターンを形成させる工程と、マスクとした上層を剥離する工程を備えた光ディスク原盤の製造方法において、下層にパターンを形成する時に、上層マスク層側より波長320nm以下の第2の光を照射することを特徴とした光ディスク用原盤の製造方法。

IPC (3件)：

G11B 7/26 501 ,  G03F 7/095 ,  G03F 7/26 511

FI (3件)：

G11B 7/26 501 ,  G03F 7/095 ,  G03F 7/26 511

Fターム (21件)：

2H025AA02 ,  2H025AB14 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025DA19 ,  2H025DA29 ,  2H025FA10 ,  2H025FA39 ,  2H025FA41 ,  2H096AA28 ,  2H096BA01 ,  2H096CA05 ,  2H096EA05 ,  2H096EA23 ,  2H096HA23 ,  2H096HA30 ,  5D121BA05 ,  5D121BB03 ,  5D121BB04 ,  5D121BB07