特許
J-GLOBAL ID:200903029602444213

金属メッキ組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-095076
公開番号(公開出願番号):特開2008-261050
出願日: 2008年04月01日
公開日(公表日): 2008年10月30日
要約:
【課題】改善されたレベリング性能および改善された均一電着性を有する金属メッキ組成物が必要とされている。【解決手段】基体上に金属をメッキするための金属メッキ組成物が開示される。金属メッキ組成物は、金属メッキ組成物のレベリングおよび均一電着性に影響を及ぼす化合物を含む。基体上に金属を堆積させる方法も開示される。【選択図】なし
請求項(抜粋):
1以上の金属イオン源および下記式を有する1以上の化合物を含む組成物: R1-A-R3-A-[C(O)-R5-C(O)-A-R3-A]n-R2 (I) (式中、Aは-NH-;または-NH-R6-であり; R1は、ランダム、交互またはブロック-(CHR9CHR10O)p-Hであり、ここで、 R9およびR10は同一であるか、または異なり、かつ-H、-CH3、または-CH2CH3であり、および、 pは1から50の整数であり; R2はランダム、交互またはブロック-(CHR9CHR10O)p-H;または-C(O)-R5-C(O)OHであり; R3は、-(CH2)r-NH-R4-(CH2)r-;-(CH2)r-NH-(CH2)r-;-(CH2)r-(OC2H4)-O-(CH2)r-;または-(CH2)r-であり、および、 rは1から8の整数であり; R4はランダム、交互またはブロック-(CHR9CHR10O)p-であり; R5は-(CH2)q-であり、ここでqは1から8の整数であり; R6はランダム、交互またはブロック-(CHR9CH10O)p-であり;並びにnは1から10の整数である)。
IPC (2件):
C25D 3/02 ,  C25D 7/00
FI (3件):
C25D3/02 ,  C25D7/00 J ,  C25D7/00 P
Fターム (35件):
4K023AA12 ,  4K023AA17 ,  4K023AA19 ,  4K023AA24 ,  4K023AA25 ,  4K023AA26 ,  4K023AA30 ,  4K023AB20 ,  4K023AB33 ,  4K023AB38 ,  4K023AB41 ,  4K023BA06 ,  4K023BA07 ,  4K023BA08 ,  4K023BA11 ,  4K023BA26 ,  4K023BA29 ,  4K023CB03 ,  4K023CB04 ,  4K023CB05 ,  4K023CB07 ,  4K023CB11 ,  4K023CB14 ,  4K023CB32 ,  4K024AA03 ,  4K024AA07 ,  4K024AA09 ,  4K024AA10 ,  4K024AA11 ,  4K024AA12 ,  4K024AA14 ,  4K024BB11 ,  4K024BB20 ,  4K024BC01 ,  4K024CA02
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 米国特許第6,425,996号明細書
  • 特開昭63-52120号公報

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