特許
J-GLOBAL ID:200903029603770289

ブランケットおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 愛智 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-148666
公開番号(公開出願番号):特開2002-337473
出願日: 2001年05月18日
公開日(公表日): 2002年11月27日
要約:
【要約】【課題】 伸びが確実に抑制されて高精細の画像パターンの印刷に十分対応することができるとともに、シリコーンゴムによる優れたインキ転写性を確保しながら、良好なインキ受理性を安定して発揮することができるオフセット印刷用のブランケットを提供することにある。【解決手段】 金属フィルムからなる基材層10の上に表面層30が形成されてなるオフセット印刷用のブランケットであって、前記表面層30は、架橋したシリコーンゴム層30Bの上に、硫黄架橋したゴムシート52を重ね合わせてなる積層シートを加熱処理した後、当該硫黄架橋したゴムシート52を分離することにより得られるシリコーンゴム層からなる。
請求項(抜粋):
金属フィルムからなる基材層の上に表面層が形成されてなるオフセット印刷用のブランケットであって、前記表面層は、架橋したシリコーンゴム層の上に、硫黄架橋したゴムシートを重ね合わせてなる積層シートを加熱処理した後、当該硫黄架橋したゴムシートを分離することにより得られるシリコーンゴム層からなることを特徴とするブランケット。
Fターム (10件):
2H114AA05 ,  2H114CA02 ,  2H114CA04 ,  2H114DA04 ,  2H114DA46 ,  2H114DA62 ,  2H114EA04 ,  2H114EA08 ,  2H114FA06 ,  2H114GA12

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