特許

J-GLOBAL ID：200903029619650682

耐湿性反射防止膜

発明者： 藤井 秀雄 ,  荒木 清 ,  加藤 元勝
出願人/特許権者： 旭光学工業株式会社
代理人 (1件)： 三浦 邦夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-025430
公開番号（公開出願番号）：特開平7-234302
出願日： 1994年02月23日
公開日（公表日）： 1995年09月05日
要約：

【要約】【目的】 高湿度雰囲気に曝されて表面に水滴が生じた後に蒸発して残ったフローマークを簡単に拭き取ることができる反射防止膜を提供すること。【構成】 光学ガラス基板上に形成される複数の層から成る反射防止膜であって、HfO2 又はTa2 O5 から成る高屈折率材料層と、SiO2 から成る低屈折率材料層とを有し、大気側最外層が上記高屈折率材料層であることを特徴とする耐湿性反射防止膜である。

請求項（抜粋）：

光学ガラス基板上に形成される複数の層から成る反射防止膜であって、HfO2 又はTa2 O5 から成る高屈折率材料層と、SiO2 から成る低屈折率材料層とを有し、大気側最外層が上記高屈折率材料層であることを特徴とする耐湿性反射防止膜。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 耐薬反射防止膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-217898   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 特開昭58-199301
  
• 特開平3-135502