特許
J-GLOBAL ID：200903029626690681
表面検査のためのシミュレーション方法及び表面検査装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
鈴木 崇生
, 梶崎 弘一
, 尾崎 雄三
, 谷口 俊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-194894
公開番号（公開出願番号）：特開2005-030848
出願日： 2003年07月10日
公開日（公表日）： 2005年02月03日
要約：
【課題】繰り返し明暗パターン照明を用いた表面検査において、最適なパターン周期・最適な画像解析手法を求めるためのシミュレーション方法を提供すること。【解決手段】所定の繰り返し明暗パターンを被検体に対して照明し、明暗パターンが照明されたフィルム11をCCD10により撮像し、CCD10により撮像された画像を解析することでフィルム11の表面欠陥を検出する表面検査を行うにあたり、最適な繰り返し明暗パターンを求めるためのシミュレーション方法であって、フィルム11の表面に欠陥モデルを設定するステップと、CCD10の撮像位置から出射したと仮定した光線が、フィルム11の表面で反射し、明暗パターンの配置される位置にて形成される光線分布形状を求めるステップと、光線分布形状と明暗パターンのパターン形状とを重ね合わせるステップと、重ね合わせ領域の面積に基づいて、明暗パターンの最適なパターン周期を取得するステップとを有する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
所定の繰り返し明暗パターンを被検体に対して照明し、前記明暗パターンが照明された被検体を撮影手段により撮像し、この撮影手段により撮像された画像を解析することで被検体の表面欠陥を検出する表面検査を行うにあたり、最適な繰り返し明暗パターンを求めるためのシミュレーション方法であって、
被検体の表面に欠陥モデルを設定するステップと、
前記撮影手段の撮像位置から出射したと仮定した光線が、被検体の表面で反射し、前記明暗パターンのパターン面上に形成される光線分布形状を求めるステップと、
前記光線分布形状と前記明暗パターンのパターン形状とを重ね合わせるステップと、
前記重ね合わせの重なり度合いに基づいて、前記明暗パターンの最適なパターン周期を判定できるようにした表面検査のためのシミュレーション方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N21/88 Z
, G01B11/30 A
2F065AA49
, 2F065AA54
, 2F065AA56
, 2F065CC02
, 2F065DD03
, 2F065FF42
, 2F065HH06
, 2F065JJ03
, 2F065JJ08
, 2F065JJ26
, 2F065LL05
, 2F065LL41
, 2G051AA41
, 2G051AA90
, 2G051AB20
, 2G051AC04
, 2G051BB07
, 2G051CB01
, 2G051CB02
, 2G051EA16
