特許

J-GLOBAL ID：200903029631498926

昇華性物質真空蒸着装置

発明者： 田口 俊夫 ,  星 要之介 ,  中石 信義 ,  神川 進
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 光石 俊郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-108045
公開番号（公開出願番号）：特開平7-316783
出願日： 1994年05月23日
公開日（公表日）： 1995年12月05日
要約：

【要約】【目的】 蒸着膜の性能悪化を防止する。【構成】 収納容器23及びノズル25を有する蓋25を窒化ほう素または酸化マグネシウムとし、COガス発生の影響を小さくしてSiO2 、SiO等の昇華性物質の蒸気を発生させることにより、良質の蒸着膜を得るようにし、高品質を保った状態で基板4の幅方向に均一にSiO2 、SiO等の昇華性物質を蒸着して蒸着膜の性能悪化を防止する。

請求項（抜粋）：

昇華性物質を蒸着する昇華性物質真空蒸着装置において、蒸着物質を取り囲んで収納する収納容器を備えると共に該収納容器を窒化ほう素または酸化マグネシウムとし、前記蒸着物質の蒸発面積より断面積の小さいスリット状のノズルを有する蓋を前記収納容器に設けると共に該蓋を窒化ほう素または酸化マグネシウムとし、該蓋の該ノズルの周囲を囲んで被加熱体を設置すると共に該被加熱体をグラファイトとしたことを特徴とする昇華性物質真空蒸着装置。