特許

J-GLOBAL ID：200903029657449109

高圧湿式微粒化方法及び装置

発明者： 中谷 正雄 ,  高木 昭夫
出願人/特許権者： 株式会社スギノマシン
代理人 (2件)： 佐藤 正年 ,  佐藤 年哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-029383
公開番号（公開出願番号）：特開2004-237217
出願日： 2003年02月06日
公開日（公表日）： 2004年08月26日
要約：

【課題】微粒化処理部の衝撃による温度上昇を抑え、常にどのような材料の場合にも、高い衝撃力、分散能力にて安全で効率的に微粒化が行える高圧湿式微粒化方法および装置の提供。【解決手段】微粒化すべき粒子とその媒質液とを含む原料液を微小オリフィスからチャンバ内へ高圧で噴射し、この噴射エネルギーを利用して原料液中の粒子を微粒化するに際し、微粒化が行われている処理部近辺に冷却液を噴射する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

微粒化すべき粒子とその媒質液とを含む原料液を微小オリフィスからチャンバ内へ高圧で噴射し、この噴射エネルギーを利用して原料液中の粒子を微粒化するに際し、微粒化が行われている処理部近辺に冷却液を噴射することを特徴とする高圧湿式微粒化方法。

IPC (4件)：

B02C19/00 ,  B01F3/08 ,  B01F5/06 ,  B02C23/00

FI (4件)：

B02C19/00 Z ,  B01F3/08 A ,  B01F5/06 ,  B02C23/00 Z

Fターム (8件)：

4D067CG06 ,  4D067EE34 ,  4D067GA07 ,  4D067GA13 ,  4G035AB37 ,  4G035AB44 ,  4G035AC15 ,  4G035AE15