特許

J-GLOBAL ID：200903029659505790

活性シリカの製造方法

発明者： 片岡 克之 ,  大津 健史
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-159396
公開番号（公開出願番号）：特開平11-349322
出願日： 1998年06月08日
公開日（公表日）： 1999年12月21日
要約：

【要約】【課題】?@水ガラス酸性化槽、モノマーシリカの重合槽が不要、?A重合シリカの粘度測定が不要で、従来より著しく簡単である製造工程、?B活性シリカの製造所要時間が数分と非常に短時間である、?CpH調整工程が不要で、アルカリ剤又は酸、アルカリ剤の両方が不要、?D凝集剤製造中のシリカのゲル化トラブルが発生しない、?E製造した活性シリカの保存中のゲル化トラブルが問題にならない、という各々の要件を持たす製造方法を提供すること。【解決手段】 シリカ濃度3重量%以上のアルカリ性珪酸ナトリウム水溶液と、pH1以下でFe濃度1.5重量%以上の第2鉄塩水溶液とを攪拌混合することによって、Si/Feモル比が0.5以上、pH2.0以下の鉄含有シリカ酸性水溶液を調製することを特徴とする活性シリカの製造方法。

請求項（抜粋）：

シリカ濃度3重量%以上のアルカリ性珪酸ナトリウム水溶液と、pH1以下でFe濃度1.5重量%以上の第2鉄塩水溶液とを攪拌混合することによって、Si/Feモル比が0.5以上、pH2.0以下の鉄含有シリカ酸性水溶液を調製することを特徴とする活性シリカの製造方法。

IPC (3件)：

C01B 33/14 ,  B01D 21/01 102 ,  C02F 1/52

FI (3件)：

C01B 33/14 ,  B01D 21/01 102 ,  C02F 1/52 Z