特許

J-GLOBAL ID：200903029662973487

複屈折膜の製造装置

発明者： 白岩 弘 ,  岡田 誠治郎 ,  大谷 健二
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-119869
公開番号（公開出願番号）：特開平9-302466
出願日： 1996年05月15日
公開日（公表日）： 1997年11月25日
要約：

【要約】【課題】 真空蒸着装置において金属酸化物を斜方蒸着により複屈折膜を製造する時に、蒸着バッチにより複屈折率が変動するため、膜厚制御だけでは目的とする複屈折膜のリターデーションが再現性良く得られない。【解決手段】 真空蒸着チャンバー1の外部一方向から、直線偏光されたレーザー光を導入し、斜方蒸着されている透明基板2を透過させ、その光を全反射ミラー12で垂直に反射させ再度透明基板2を透過させ、戻って来た光をハーフミラー5で分光し、その時のリターデーションをセナルモン法を利用して、1/4波長板7と、偏光フィルター8を組み合わせてモニターする。目的のリターデーション値から偏光フィルターの回転角度を設定し、蒸着中に、受光素子9からの出力電圧が最小となる時、目的のリターデーションと判定し、蒸着を終了させる。

請求項（抜粋）：

金属酸化物を斜方蒸着して複屈折膜を製造する装置において、蒸着している時に、レーザー光源から直線偏光した光を蒸着している透過基板を透過させ、全反射ミラーで垂直に反射させ、再度前記透過基板を透過させ、戻って来た光をハーフミラーで分光し、セナルモン法を利用して蒸着中の基板複屈折膜のリターデーションを直接モニターする蒸着停止機能を有することを特徴とする複屈折膜の製造装置。

IPC (5件)：

C23C 14/54 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/30 ,  G01B 11/06 ,  G01J 4/00

FI (6件)：

C23C 14/54 C ,  C23C 14/08 E ,  C23C 14/08 G ,  C23C 14/30 ,  G01B 11/06 Z ,  G01J 4/00