特許

J-GLOBAL ID：200903029683525760

核酸マイクロアレイの作製方法及び核酸スポッティング溶液

発明者： 田代 英夫 ,  近藤 恭光 ,  畠山 哲
出願人/特許権者： 理化学研究所
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-339551
公開番号（公開出願番号）：特開2004-170367
出願日： 2002年11月22日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：

【課題】最適なハイブリダイゼーション効率を示すように核酸の固定化量の制御を容易に行うことができる手段を提供すること。【解決手段】基板表面に核酸スポッティング溶液をスポットして核酸スポットを形成する核酸マイクロアレイの作製方法。前記核酸スポッティング溶液は、少なくとも基板表面に固定化することができる反応基をスペーサー基を介して有する核酸と、核酸を有さず基板表面に固定化することができる反応基とスペーサー基を有する化合物を含む。前記核酸分子数と、前記化合物の分子数の比率が1:1〜1:1000の範囲である。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

基板表面に核酸スポッティング溶液をスポットして核酸スポットを形成する核酸マイクロアレイの作製方法において、 前記核酸スポッティング溶液は、少なくとも基板表面に固定化することができる反応基をスペーサー基を介して有する核酸と、核酸を有さず基板表面に固定化することができる反応基とスペーサー基を有する化合物を含むことを特徴とする作製方法。

IPC (4件)：

G01N33/53 ,  C12N15/09 ,  G01N1/28 ,  G01N37/00

FI (5件)：

G01N33/53 M ,  G01N37/00 102 ,  G01N1/28 J ,  C12N15/00 F ,  G01N1/28 V

Fターム (19件)：

2G052AB20 ,  2G052CA03 ,  2G052CA04 ,  2G052CA16 ,  2G052CA32 ,  2G052DA05 ,  2G052EC14 ,  2G052FA05 ,  2G052FD06 ,  2G052HB10 ,  2G052JA04 ,  2G052JA07 ,  2G052JA09 ,  2G052JA13 ,  2G052JA15 ,  2G052JA16 ,  4B024AA11 ,  4B024CA09 ,  4B024HA12