特許

J-GLOBAL ID：200903029688840639

X線マスクと該マスクの製造方法、ならびに該マスクを用いたデバイス生産方法

発明者： 加藤 日出夫 ,  菅田 正夫 ,  前原 広 ,  千葉 啓子
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-310546
公開番号（公開出願番号）：特開平8-167555
出願日： 1994年12月14日
公開日（公表日）： 1996年06月25日
要約：

【要約】【目的】 経時およびプロセス安定性に優れたX線リソグラフィ用マスクを提供すること。【構成】 X線透過膜であるマスクメンブレン上に形成される吸収体パターンが、タングステン(W)とモリブデン(Mo)を含む合金であることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

マスクメンブレン上に形成される吸収体パターンが、タングステン(W)とモリブデン(Mo)を含む合金であることを特徴とするX線マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭56-112727
  
• 特開昭63-155618