特許

J-GLOBAL ID：200903029692121680

磁気ディスク用基板の作製方法、その方法により得られた磁気ディスク用基板及び磁気記録媒体

発明者： 池田 浩司 ,  松野 好洋
出願人/特許権者： 日本板硝子株式会社
代理人 (1件)： 恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-122781
公開番号（公開出願番号）：特開2000-311336
出願日： 1999年04月28日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：

【要約】【課題】 アスペリティのない微小凹凸を安定して形成することができ、基板を再現性良く作製することができるとともに、磁気ディスクを製造する際の歩留まりを向上させることができる磁気ディスク用基板の作製方法、その方法により得られた磁気ディスク用基板及び磁気記録媒体を提供する。【解決手段】 磁気ディスク用基板は、ガラス等の無機材料からなる基板に対し、酸性溶液を用いて異なる処理条件下で浸漬処理又はスクラブ処理を複数回行うことによって作製される。さらに、酸性溶液による処理の間又は酸性溶液による処理の後に、中性溶液又はアルカリ性溶液を用いた処理が行われる。これらの処理により作製された磁気ディスク用基板は、その表面の平均面粗さRaが0.4〜3.0nmで、かつ基板表面の平均面粗さ(Ra)に対する基板表面の10点平均面粗さ(Rz)の比が14以下である微小凹凸を有する。

請求項（抜粋）：

ガラス、結晶化ガラス、セラミックス、アルミニウム等の無機材料からなる基板又はその基板上にニッケル-リン(NiP)等の合金膜を予め成膜した基板に対し、酸性溶液を用いて異なる処理条件下で浸漬処理又はスクラブ処理を複数回行い、基板表面の平均面粗さRaが0.4〜3.0nmで、かつ基板表面の平均面粗さ(Ra)に対する基板表面の10点平均面粗さ(Rz)の比が14以下である微小凹凸を形成することを特徴とする磁気ディスク用基板の作製方法。

IPC (5件)：

G11B 5/84 ,  C03C 15/02 ,  C23F 1/00 ,  G11B 5/73 ,  H01L 21/306

FI (5件)：

G11B 5/84 Z ,  C03C 15/02 ,  C23F 1/00 Z ,  G11B 5/704 ,  H01L 21/306 D

Fターム (35件)：

4G059AA08 ,  4G059AA09 ,  4G059AC01 ,  4G059BB04 ,  4G059BB14 ,  4K057WA05 ,  4K057WB03 ,  4K057WB05 ,  4K057WB11 ,  4K057WB15 ,  4K057WC03 ,  4K057WD10 ,  4K057WE02 ,  4K057WE03 ,  4K057WE04 ,  4K057WE07 ,  4K057WE08 ,  4K057WG03 ,  4K057WK10 ,  4K057WN01 ,  5D006CB04 ,  5D006CB07 ,  5D006DA03 ,  5D006DA04 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112BA09 ,  5D112GA09 ,  5D112GA28 ,  5F043AA40 ,  5F043BB27 ,  5F043BB30 ,  5F043DD02 ,  5F043DD12