特許
J-GLOBAL ID：200903029695017824
大型基板用リフトオフ装置とその調整方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-217684
公開番号（公開出願番号）：特開平5-055180
出願日： 1991年08月29日
公開日（公表日）： 1993年03月05日
要約：
【要約】【目的】 液晶ディスプレイやエレクトロルミネッセンス等を構成するパネル上に薄膜トランジスタを形成する際に用いられるリフトオフ装置に関し、均一なリフトオフ処理が可能で処理能力の高いリフトオフ装置の提供を目的とする。【構成】 底に複数の超音波発生器31が所定の間隔で配設され剥離液33を貯留するリフトオフ槽32と、剥離液33に浸漬された被処理基板1を水平に保持する基板保持治具34と、被処理基板1を縦、横、または深さ方向の少なくとも1方向に揺動せしめる基板揺動機構35を有し、且つ、リフトオフ槽32内の複数の領域における超音波の音圧を計測し信号を出力する音圧検出機構4と、リフトオフ槽32内の音圧分布を表示する音圧分布表示機構5を具えてなるように構成する。
請求項（抜粋）：
底に複数の超音波発生器(31)が所定の間隔で配設され剥離液(33)を貯留するリフトオフ槽(32)と、該剥離液(33)に浸漬された被処理基板(1)を水平に保持する基板保持治具(34)と、該被処理基板(1) を縦、横、または深さ方向の少なくとも1方向に揺動せしめる基板揺動機構(35)を有し、且つ、該リフトオフ槽(32)内の複数の領域における超音波の音圧を計測し信号を出力する音圧検出機構(4) と、該リフトオフ槽(32)内の音圧分布を表示する音圧分布表示機構(5) を具えてなることを特徴とする大型基板用リフトオフ装置。
IPC (2件)：
H01L 21/302
, H01L 21/304 341
