セラミック薄膜付き中空容器の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-154176
公開番号（公開出願番号）：特開2004-352915
出願日： 2003年05月30日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：

【課題】中空容器の形状や大きさにかかわらず十分な性能を持つセラミック薄膜を持つセラミック薄膜付き中空容器の製造方法を提供することが望まれていた。【解決手段】中空容器の表面にセラミック薄膜をプラズマCVDにより成膜するセラミック薄膜付き中空容器の製造方法において、プラズマ発生圧力とは異なる圧力にて成膜することを特徴とするセラミック薄膜付き中空容器の製造方法を提供する。特に、プラズマ発生圧力調整を原料ガス流量の設定で行うことを特徴とするセラミック薄膜付き中空容器の製造方法を提供する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

中空容器の表面にセラミック薄膜をプラズマCVDにより成膜するセラミック薄膜付き中空容器の製造方法において、チャンバー圧力をプラズマ発生時の圧力とは異なる圧力にて成膜することを特徴とするセラミック薄膜付き中空容器の製造方法。

IPC (7件)：

C08J7/06 , B65D23/02 , B65D23/08 , B65D25/14 , B65D25/34 , C23C16/42 , C23C16/52

FI (9件)：

C08J7/06 , B65D23/02 A , B65D23/02 Z , B65D23/08 A , B65D23/08 B , B65D25/14 Z , B65D25/34 B , C23C16/42 , C23C16/52

Fターム (25件)：

3E062AA09 , 3E062AB14 , 3E062AB20 , 3E062AC02 , 3E062AC06 , 3E062JA01 , 3E062JA08 , 3E062JB24 , 3E062JD01 , 4F006AA35 , 4F006AB39 , 4F006BA05 , 4F006CA07 , 4F006DA01 , 4F006EA02 , 4K030AA06 , 4K030AA09 , 4K030AA14 , 4K030BA44 , 4K030CA07 , 4K030CA15 , 4K030HA15 , 4K030JA05 , 4K030JA09 , 4K030LA01

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