特許

J-GLOBAL ID：200903029715435768

写真用支持体の製造方法

発明者： 奥津 俊光 ,  大歳 正明
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-334937
公開番号（公開出願番号）：特開平5-170890
出願日： 1991年12月18日
公開日（公表日）： 1993年07月09日
要約：

【要約】【構成】本発明は、酸成分としてテレフタル酸と金属スルホネートを有する芳香族ジカルボン酸、グリコール成分としてエチレングリコール、脂環族グリコール及び一般式(1)で示されるビスフェノールAもくしは水素化ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物を共重合 一般式(1) H(OCH2CH2)n O-R-C(CH3)2-R-O(CH2CH2O)m H (ここでRはp-フェニレン基または1,4-シクロヘキシレン基であり、nとmは1以上の整数でn+mは2以上である)し、吸水率が1.0重量%以上でかつ示差走査熱量計(DSC)で測定するガラス転移点(Tg)が65°C以上であることを特徴とするポリエステル系写真用支持体の製造方法である。【効果】透明性、機械的強度に優れると共に、カール解消性に優れた写真用支持体が得られる。

請求項（抜粋）：

酸成分としてテレフタル酸と金属スルホネート基を有する芳香族ジカルボン酸、グリコール成分としてエチレングリコールと脂環族グリコール及び一般式(1)で示されるビスフェノールAもしくは水素化ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物を共重合し、吸水率が1.0重量%以上でかつ示差走査熱量計(DSC)で測定するガラス転移点(Tg)が65°C以上であることを特徴とするコポリエステル系写真用支持体の製造方法。 一般式(1) H(OCH2CH2)n O-R-C(CH3)2-R-O(CH2CH2O)m H (ここでRはp-フェニレン基または1,4-シクロヘキシレン基であり、nとmは1以上の整数でn+mは2以上である)

IPC (5件)：

C08G 63/688 NNK ,  C08G 63/181 NME ,  C08G 63/199 NNC ,  C08G 63/672 NNG ,  G03C 1/795