特許

J-GLOBAL ID：200903029718056741

フタロニトリル化合物およびフタロシアニン化合物の新規製造方法

発明者： 奥村 康則 ,  海江田 修
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
代理人 (1件)： 八田 幹雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-215828
公開番号（公開出願番号）：特開平10-059921
出願日： 1996年08月15日
公開日（公表日）： 1998年03月03日
要約：

【要約】【課題】 高純度で簡便かつ経済的なフタロニトリル化合物およびフタロシアニン化合物の新規な製造方法を提供する。【解決手段】 ハロゲン化フタロニトリル化合物と求核置換体とを反応させフタロニトリル化合物を製造する方法において、溶媒としてベンゾニトリルを用い、反応終了後の反応生成液に水を添加して洗浄することを特徴とするフタロニトリル化合物の製造方法、およびこれにより得られた反応生成液に金属、ハロゲン化金属、金属酸化物または有機酸金属塩を添加し前記フタロニトリル化合物と反応させることを特徴とするフタロシアニン化合物の製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式(I)【化1】(式中、Xはフッ素原子または塩素原子を表し、R1 は同一または異なって水素原子、ハロゲン原子、-NHR2 基、-OR2 基または-SR2 基を表し、R2は置換基を有してもよいアルキル基またはアリール基を表し、nは1〜4の整数を表す。)で示される化合物と一般式(II)【化2】(式中、R3 は-NHR4 基、-OR4 基または-SR4 基を表し、R4 は置換基を有してもよいアルキル基またはアリール基を表す。)で示される化合物とを反応させ、一般式(III )【化3】(式中、X、R1 、R3 およびnは前記定義どおりであり、mは1≦m≦nの整数を表す)で示されるフタロニトリル化合物を製造する方法において、溶媒としてベンゾニトリルを用い、反応終了後の反応生成液に水を添加して洗浄することを特徴とするフタロニトリル化合物の製造方法。

IPC (7件)：

C07C255/51 ,  C07C253/30 ,  C07D487/22 ,  C09B 47/10 ,  C09B 47/18 ,  C09B 47/20 ,  C09B 47/22

FI (7件)：

C07C255/51 ,  C07C253/30 ,  C07D487/22 ,  C09B 47/10 ,  C09B 47/18 ,  C09B 47/20 ,  C09B 47/22