特許

J-GLOBAL ID：200903029718477135

エレクトロニクス用基体用ガラス及びその製品

発明者： クリスティーヌ ポンティウ ,  デニス プティメール ,  ディディエール ジューセ ,  パスカル フルニエール
出願人/特許権者： サン-ゴバン ビトラージュ アンテルナショナル
代理人 (1件)： 青木 朗 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-172599
公開番号（公開出願番号）：特開平5-201744
出願日： 1992年06月30日
公開日（公表日）： 1993年08月10日
要約：

【要約】【目的】 錫浴等の浴の表面上にフロートに用いられる通常のガラスよりも低い温度でフロートできる電子装置用基体又は活性マトリックススクリーン(activematrix screen)の製造に適したガラス組成物を提供する。【構成】 下記成分をカチオン%で表わして下記組成で含むガラス組成物:SiO2+B2O3:57〜67%;B2O3:5〜20%;Al2O3 :14〜18%;RO(CaO +MgO +BaO +SrO ):18〜25%;但し、CaO /RO≧0.7、かつCaO ≧18%;Na2O+K2O :0〜0.5%;TiO2:0〜2.5%;Fe203 ≦0.5%;F2:0〜3%。但しF2はカチオンとみなす。

請求項（抜粋）：

電子装置の製造に用いられる基体を形成するためのガラス組成物であって、次の成分をカチオン%で表わした次の組成で含むもの:SiO2+B2O3 57〜67%但しB2O3 5〜20%Al2O3 14〜18%RO (CaO +MgO +BaO +SrO) 18〜25%但し CaO /RO≧0.7 かつCaO ≧18%Na2O+K2O 0〜0.5%TiO2 0〜2.5%Fe203 ≦0.5%F2 0〜3%

IPC (2件)：

C03C 3/091 ,  H01L 23/15

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平1-093436
  
• 特開昭64-083538