特許

J-GLOBAL ID：200903029720627985

グラフトポリマーパターン形成方法、導電性パターン形成方法及び有機EL表示装置

発明者： 佐藤 弘司 ,  川村 浩一 ,  飛田 勉 ,  中山 昌哉 ,  小川 哲平
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-260971
公開番号（公開出願番号）：特開2008-083200
出願日： 2006年09月26日
公開日（公表日）： 2008年04月10日
要約：

【課題】種々の機能性材料を付着させうる高解像度のグラフトパターンの形成が可能であり、基板とグラフトポリマーとの密着性に優れたグラフトポリマーパターン形成方法及びそれを用いた基板との密着性に優れ、基板との界面における凹凸が小さい金属膜を形成しうる導電性パターン形成方法を提供する。【解決手段】(a)基板上に感光性レジストパターンを形成する工程、(b)該基板上の感光性レジストパターンの非形成領域に光重合開始剤を付与する工程、(c)感光性レジストパターンを剥離する工程、及び、(d)基板表面に、全面にわたり二重結合を有する化合物を接触させ、全面にエネルギーを付与して、光重合開始剤を付与した領域にグラフトポリマーを形成させる工程、を含む、グラフトポリマーパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(a)基板上に感光性レジストパターンを形成する工程、(b)該基板上の感光性レジストパターンの非形成領域に光重合開始剤を付与する工程、(c)感光性レジストパターンを剥離する工程、及び、(d)基板表面に、全面にわたり二重結合を有する化合物を接触させ、全面にエネルギーを付与して、光重合開始剤を付与した領域にグラフトポリマーを形成させる工程、を含む、グラフトポリマーパターン形成方法。

IPC (8件)：

G03F 7/40 ,  H05K 3/18 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/06 ,  C08J 7/18 ,  G03F 7/38 ,  H01B 13/00 ,  H01L 21/320

FI (9件)：

G03F7/40 ,  H05K3/18 A ,  H05B33/14 A ,  H05B33/06 ,  H05K3/18 B ,  C08J7/18 ,  G03F7/38 501 ,  H01B13/00 503D ,  H01L21/88 B

Fターム (51件)：

2H096AA26 ,  2H096EA02 ,  2H096GA09 ,  2H096HA30 ,  2H096JA04 ,  2H096LA02 ,  3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC03 ,  3K107CC12 ,  3K107CC21 ,  3K107CC25 ,  3K107DD43Z ,  3K107GG11 ,  3K107GG21 ,  4F073AA32 ,  4F073BA22 ,  4F073BB02 ,  4F073CA45 ,  4F073CA46 ,  4F073EA03 ,  4F073FA03 ,  4F073FA05 ,  4F073FA09 ,  4F073GA11 ,  5E343AA02 ,  5E343AA18 ,  5E343AA38 ,  5E343BB24 ,  5E343BB44 ,  5E343CC62 ,  5E343CC71 ,  5E343CC73 ,  5E343DD33 ,  5E343EE02 ,  5E343EE14 ,  5E343ER04 ,  5E343ER12 ,  5E343ER16 ,  5E343ER18 ,  5E343GG08 ,  5F033HH00 ,  5F033HH07 ,  5F033HH11 ,  5F033HH13 ,  5F033HH14 ,  5F033MM05 ,  5F033PP28 ,  5F033QQ00 ,  5F033QQ53 ,  5G323CA05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開昭58-196238号明細書。