特許

J-GLOBAL ID：200903029720725448

ポリマー基板にガス相で無機化合物をプラズマ堆積する反応装置

発明者： ロスタン・ジヤン-クリストフ ,  コウレ・フランソワ
出願人/特許権者： ル・エール・リクイツド・ソシエテ・アノニム・プール・ル・エチユド・エ・ル・エクスプルワテシヨン・デ・プロセデ・ジエオルジエ・クロード
代理人 (1件)： 八木田 茂 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-151668
公開番号（公開出願番号）：特開平5-331648
出願日： 1992年06月11日
公開日（公表日）： 1993年12月14日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 透明なポリマー基板に、保護及び濾光用の層を形成する。【構成】 反応装置は、この反応装置の囲い1内に延びる端部15が段々に口が広がり、被覆すべき基板6を覆う端部開口表面を有する外形16を呈するプラズマ柱13,15を有し、堆積すべき化合物の前駆ガス注入手段は、プラズマ柱の端部開口からわずかに離れた平面内に、前記端部開口と平行にほぼ位置し、基板支持台5に垂直にほぼ規則的に分配された複数の注入オリフィス28を有し、基板支持台5は冷却手段30,31を備え、高周波界の影響による基板の自動分極のお蔭で基板のイオン衝撃を変えるように高周波発生器32に接続される。

請求項（抜粋）：

基板支持台(5)が内部に配置されている気密な囲い(1);基板支持台に垂直に囲い内で延びる端部(15,16)を有し、プラズマ発生源(20,21′)に接続可能で、かつプラズマ発生ガス励起手段(17,18)と組合されるプラズマ柱(13,15);及びプラズマ柱端部と基板支持台との間に配置された少なくとも1種類の前駆ガス注入手段(10)を有する、ポリマー基板にガス相で無機化合物をプラズマ堆積する反応装置において、プラズマ柱の端部が、段々に口が拡がり、被覆すべき基板(6)区域面と少なくとも等しい端部開口面を有する外形(16)を呈することを特徴とする反応装置。

IPC (2件)：

C23C 16/50 ,  H01J 37/32

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-030764
  
• 特開平3-072620
  
• 特開平2-070066