特許

J-GLOBAL ID：200903029728690481

脱イオン水製造方法及び装置

発明者： 葛西 輝彦
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 赤塚 賢次 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-213546
公開番号（公開出願番号）：特開2001-038359
出願日： 1999年07月28日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：

【要約】【課題】 被処理水の水質が、シリカや硬度成分を多く含有する水であっても、逆浸透膜装置内及び濃縮室内や電極室内でのスケール発生を防止して、電気式脱イオン水製造装置の脱イオン性能を維持する脱イオン水製造方法を提供すること。【解決手段】 脱塩室、濃縮室及び電極室を有すると共に、一対の電極に電圧を印加することで脱塩室から脱イオン水を得る電気式脱イオン水製造装置2の濃縮水にスケール発生防止剤を添加し、前記スケール発生防止剤を含有する濃縮水を電気式脱イオン水製造装置2の前段に配置される逆浸透膜装置1の被処理水供給側へ返送する脱イオン水製造方法。

請求項（抜粋）：

脱塩室、濃縮室及び電極室を有すると共に、一対の電極に電圧を印加することで脱塩室から脱イオン水を得る電気式脱イオン水製造装置の濃縮水にスケール発生防止剤を添加し、前記スケール発生防止剤を含有する濃縮水を前記電気式脱イオン水製造装置の前段に配置される逆浸透膜装置の被処理水流入側へ返送することを特徴とする脱イオン水製造方法。

IPC (4件)：

C02F 1/469 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44 ,  C02F 5/08

FI (4件)：

C02F 1/46 103 ,  C02F 1/42 B ,  C02F 1/44 H ,  C02F 5/08

Fターム (35件)：

4D006GA03 ,  4D006KA03 ,  4D006KA41 ,  4D006KB01 ,  4D006KB11 ,  4D006KD03 ,  4D006KD30 ,  4D006MC54 ,  4D006PA01 ,  4D006PB05 ,  4D006PB06 ,  4D006PB08 ,  4D006PB23 ,  4D006PB27 ,  4D006PC01 ,  4D025AA01 ,  4D025AA09 ,  4D025AB17 ,  4D025AB19 ,  4D025BA08 ,  4D025BA13 ,  4D025DA06 ,  4D025DA10 ,  4D061DA03 ,  4D061DA08 ,  4D061DB05 ,  4D061DB13 ,  4D061EA02 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB13 ,  4D061EB19 ,  4D061EB34 ,  4D061ED20 ,  4D061FA09