特許
J-GLOBAL ID：200903029746593027
ガス電極の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-139614
公開番号（公開出願番号）：特開平6-330367
出願日： 1993年05月18日
公開日（公表日）： 1994年11月29日
要約：
【要約】【目的】 従来のガス電極の製造方法である湿式法や焼成法は経済性や安全性あるいは電極性能等において劣り、満足できるガス電極の製造方法が望まれていた。本発明は、経済性があり安全で粒径の小さい触媒層を有するガス電極の製造方法を提供することを目的とする。【構成】 電極基体の片面に、白金族金属塩を溶解し該金属塩と有機錯体を形成し得る有機溶媒を塗布し焼成して前記白金族金属塩を還元して触媒層を形成してガス電極とする。本発明方法によると、白金族金属塩の還元をフッ素樹脂を分解することなく行うことができ、表面積の大きい微細な触媒粒子から成る均一で必要最小限の厚さの触媒層を形成できる。
請求項（抜粋）：
炭素粉末及びフッ素樹脂粉末を混合焼成してシート状ガス電極基体を形成し、該基体の片面のみに、白金族金属塩を該金属塩と有機錯体を形成し得る有機溶媒中に溶解して調製した有機溶液を塗布乾燥し、不活性雰囲気中、250 °C以上380 °C以下で焼成して前記白金族金属塩を還元して触媒層を形成することを特徴とするガス電極の製造方法。
IPC (3件)：
C25B 11/08
, H01M 4/86
, H01M 4/88
