特許
J-GLOBAL ID:200903029758843037

高透磁率かつ高飽和磁束密度の軟磁性成形体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 柳川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-154197
公開番号(公開出願番号):特開2006-040906
出願日: 2001年05月23日
公開日(公表日): 2006年02月09日
要約:
【課題】高飽和磁束密度と高透磁率とを兼備し、かつ安価で製造が容易なFe系合金からなる軟磁性成形体を提供すること。【解決手段】溶融状態にあるFe基合金組成物を急冷凝固させて、非晶質相中に平均粒径が50nm以下のα-Fe結晶相が分散された混相組織を有し、180 ゚折曲げが可能な薄帯を製造する工程、そして該薄帯をα-Fe結晶相の結晶化温度より高い温度に加熱する工程により軟磁性成形体を製造する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
溶融状態にあるFe基合金組成物を急冷凝固させて、非晶質相中に平均粒径が50nm以下のα-Fe結晶相が分散された混相組織を有し、180 ゚折曲げが可能な薄帯を製造する工程、そして該薄帯をα-Fe結晶相の結晶化温度より高い温度に加熱する工程を含むことを特徴とする軟磁性成形体の製造方法。
IPC (4件):
H01F 1/153 ,  B22D 11/06 ,  C22C 38/00 ,  C22C 38/16
FI (4件):
H01F1/14 C ,  B22D11/06 360B ,  C22C38/00 303V ,  C22C38/16
Fターム (11件):
4E004DB02 ,  4E004NB07 ,  4E004NC10 ,  4E004TB04 ,  5E041AA11 ,  5E041AA19 ,  5E041BB03 ,  5E041CA02 ,  5E041CA04 ,  5E041NN01 ,  5E041NN06

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