特許
J-GLOBAL ID：200903029763212428
プラズマ溶射用粉末の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-321973
公開番号（公開出願番号）：特開平5-156315
出願日： 1991年12月05日
公開日（公表日）： 1993年06月22日
要約：
【要約】【目的】 気泡が少なく、緻密質のプラズマ溶射用粉末を提供し、相対密度の高い溶射膜を形成することである。流動し易いプラズマ溶射用粉末を提供し、溶射装置に一定速度で安定して粉末を供給することである。【構成】 原料粉末を1200°C〜1600°Cで焼成し、この焼成物を粉砕及び分級して、目的とする粒度の粉末を作製し、次いでこの粉末を加熱処理し、解砕してプラズマ溶射用粉末を得る。焼成温度と加熱処理温度との差は、100 °C以内にすることが好ましい。原料粉末を焼成する前に、一旦成形してよい。
請求項（抜粋）：
原料粉末を1200°C〜1600°Cで焼成し、この焼成物を粉砕及び分級して目的とする粒度の粉末を作製し、次いでこの粉末を加熱処理し、解砕してプラズマ溶射用粉末を得ることを特徴とする、プラズマ溶射用粉末の製造方法。
IPC (2件)：
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