特許

J-GLOBAL ID：200903029770036139

真空洗浄装置

発明者： 山本 健 ,  和田 龍一
出願人/特許権者： アクア化学株式会社
代理人 (1件)： 福島 三雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-241263
公開番号（公開出願番号）：特開平10-057909
出願日： 1996年08月22日
公開日（公表日）： 1998年03月03日
要約：

【要約】【課題】 簡易な装置構成でありながら、確実かつ迅速な洗浄動作を実現する真空洗浄装置を提供する。【解決手段】 被洗浄物の浸漬洗浄および真空乾燥に用いる洗浄槽1と、加熱機構9を備え洗浄液を加温状態で貯留している加温槽2と、加温槽2からの洗浄液を加熱機構10によって更に加熱して減圧下で沸騰冷却させる蒸留再生槽4と、減圧槽3を介して蒸留再生槽4と加温槽2を減圧する真空ポンプ5と、洗浄槽1と加温槽2に接続され、加温状態の洗浄液を洗浄槽1に供給する一方、洗浄槽1の洗浄液を加温槽2に回収する循環ポンプ7とを備える。

請求項（抜粋）：

減圧機構(5)に接続されており、被洗浄物の浸漬洗浄および真空乾燥に用いる洗浄槽(1)と、第1の加熱機構(9)を備えて、加温状態の洗浄液を貯留している加温槽(2)と、前記加温槽からの洗浄液を受け、これを第2の加熱機構(10)によって更に加熱して沸騰させた後、冷却機構(4a)によって液化凝縮する蒸留再生槽(4)と、前記減圧機構(5)に接続されて減圧されていると共に、前記加温槽に接続されていることにより、前記蒸留再生槽を減圧状態に維持する減圧槽(3)と、前記洗浄槽および前記加温槽に接続され、前記加温槽に貯留されている加温状態の洗浄液を前記洗浄槽に供給する一方、前記洗浄槽の洗浄液を前記加温槽に回収する循環機構(7)と、を備えることを特徴とする真空洗浄装置。