特許
J-GLOBAL ID：200903029774111224
露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-141326
公開番号（公開出願番号）：特開平8-008169
出願日： 1994年06月23日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：
【要約】【目的】 露光領域が大きな場合でも、スループットを低下させずに、良好な結像性能のもので回路パターンを転写できる露光装置を提供すること。【構成】 マスク(10)と基板(20)とを移動させつつマスク上のパターンを基板上に投影する露光装置は、マスクの等倍の正立像を基板上に形成する第1投影光学系(31a〜43a)及び第2投影光学系(31c〜43c)を有する。そして、第1及び第2投影光学系は、2つの共役点の一方をマスクまたは基板上に位置させるように設けた第1結像光学系(31a〜33a, 31c〜33c)と、2つの共役点の一方を第1結像光学系の他方の共役点と一致させ他方の共役点を基板またはマスク上に位置させるように設けた第2結像光学系(41a〜44a, 41c〜44c)とを有する。
請求項（抜粋）：
マスクと基板とを移動させつつ、前記マスク上のパターンを前記基板上に投影する露光装置において、前記マスクの正立像を前記基板上に形成する第1及び第2投影光学系を有し、前記第1及び第2投影光学系は、2つの共役点の一方を前記マスクまたは前記基板上に位置させるように配置した第1結像光学系と、2つの共役点の一方を前記第1結像光学系の他方の共役点と一致させると共に、他方の共役点を前記基板または前記マスク上に位置させるように配置された第2結像光学系とをそれぞれ有し、前記第1結像光学系は、凹面反射鏡と凸面反射鏡とを有し、かつ一方の共役点からの光を前記凹面反射鏡、前記凸面反射鏡及び前記凹面反射鏡の順に反射させて他方の共役点へ導き、前記第2結像光学系は、第1及び第2反射プリズムと、正屈折力のレンズ群と、該レンズ群側に凹面を向けた凹面反射鏡とを有し、かつ一方の共役点からの光を前記第1反射プリズム、前記レンズ群、前記凹面反射鏡、前記レンズ群及び前記第2反射プリズムの順に経由させて他方の共役点へ導くことを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G02F 1/1343
, G03F 7/20
