特許
J-GLOBAL ID：200903029784586832
パターン欠陥検査装置及びパターン欠陥検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-063047
公開番号（公開出願番号）：特開平11-183393
出願日： 1998年03月13日
公開日（公表日）： 1999年07月09日
要約：
【要約】【課題】 検査速度の高速化、装置の簡略化、検査対象の拡大等を実現するパターン欠陥検査装置、及びパターン欠陥検査方法を得る。【解決手段】 相関回路24は基準画像記憶部22に記憶されている複数の基準画像の中から、検出画像記憶部23に記憶されている検出画像と最も相関の高いものを選び出し、その基準画像を差分回路25に入力する。差分回路25は相関回路24から入力された基準画像と検出画像記憶部23から入力された検出画像とに基づいて両者の差分画像を作成する。欠陥判定回路26には差分回路25から差分画像が入力され、欠陥判定回路26はその差分画像に基づいて被検ウエハ41に存在する欠陥の位置や大きさ等の判定を行う。そして、その判定結果は欠陥情報加工部27に入力され、欠陥情報として出力される。
請求項（抜粋）：
被検物の表面に規則的に配列されたパターンの欠陥を検出するパターン欠陥検査装置であって、前記被検物に平行光を照射する光照射部と、前記被検物からの反射回折光を集光するレンズと、前記レンズの後焦点位置に配置され、前記被検物の正常パターンからの反射回折光を遮断するフィルタと、前記フィルタを透過した前記反射回折光を受光して検出画像を得る第1の検出部と、複数の基準画像を記憶する記憶部と、前記検出画像と前記基準画像との差を以て差分画像を得る画像処理部と、前記複数の基準画像のうち前記検出画像に最も近似しているものと前記検出画像とから得られる最適差分画像に基づいて前記欠陥を認識する欠陥認識部とを備え、前記基準画像は、光軸に垂直な平面内において前記フィルタを原点位置から段階的に移動させつつ、前記欠陥のないサンプルからの反射回折光を前記第1の検出部で受光し、像として検出することにより得られる、パターン欠陥検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, H01L 21/66
G01N 21/88 E
, G01B 11/24 F
, H01L 21/66 J
