特許
J-GLOBAL ID：200903029787587562
マーキング方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-227884
公開番号（公開出願番号）：特開2000-052070
出願日： 1998年08月12日
公開日（公表日）： 2000年02月22日
要約：
【要約】【課題】 ガラス基板上に残存するパーティクルを完全に除去し、認識ミスが発生しない高品質のマークを形成する。【解決手段】 本発明のマーキング方法は、透明体又はレーザ光線透過体からなる被マーキング材1と金属、合金若しくは金属化合物、又は金属、合金若しくは金属化合物を含む複合物とからなるマーキング材2とを合わせて設置し、被マーキング材側からレーザ光線をマーキング材に照射し被マーキング材の表面粗さを粗くして文字、図形若しくは記号のマークを形成する第1工程と、近接して設置していた被マーキング材とマーキング材との距離を離し、被マーキング材にレーザ光線を照射する第2工程とからなる構成にしている。また、第1工程と第2工程との間に除塵工程を設けてもよい。
請求項（抜粋）：
透明体又はレーザ光線透過体からなる被マーキング材と金属、合金若しくは金属化合物、又は金属、合金若しくは金属化合物を含む複合物とからなるマーキング材とを合わせて設置し、前記被マーキング材側からレーザ光線を前記マーキング材に照射し前記被マーキング材の表面粗さを粗くして文字、図形又は記号等のマークを形成する第1工程と、前記合わせて設置した被マーキング材と前記マーキング材との距離を離し、前記被マーキング材上の前記マーク及び前記マークの周辺にレーザ光線を照射する第2工程とからなることを特徴とするマーキング方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
2H111HA07
, 2H111HA14
, 2H111HA21
, 2H111HA32
, 4E068AB01
, 4E068DB13
