特許
J-GLOBAL ID：200903029790549671
アクティブマトリクス型液晶表示装置およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梅田 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-318402
公開番号（公開出願番号）：特開平10-161151
出願日： 1996年11月29日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：
【要約】【課題】 アクティブマトリクス型液晶表示装置において、外部から入射する光が液晶表示装置の内部で反射を繰り返し、薄膜トランジスタ等のスイッチング素子に入射することにより、スイッチング素子の特性ならびに液晶表示装置の表示品位を劣化させることを防止する。【解決手段】 アクティブ基板に設けられたスイッチング素子を遮光するための遮光膜5および対向基板に設けられたブラックマトリクス22をシリコン層20およびシリサイド層21で形成する。シリサイド層21はシリコン層20上に金属膜を堆積させた後、加熱することにより形成し、シリコン層20あるいは金属膜の全てがシリサイド化する前に金属膜のみを除去してシリサイド層21の表面を露出させる。シリサイド層21の表面には、シリサイド化が不均一に進行したことによる多数の凹凸が形成される。
請求項（抜粋）：
絶縁性基板上にスイッチング素子をマトリクス状に配置したアクティブマトリクス基板およびこれに対向する対向基板を有し、前記二枚の基板間に液晶を封入したアクティブマトリクス型液晶表示装置において、シリコン層とシリサイド層により構成されたスイッチング素子の遮光手段を備え、該シリコン層とシリサイド層との界面および該シリサイド層の表面が、光反射を抑制するための機能を備えていることを特徴とするアクティブマトリクス型液晶表示装置。
IPC (2件)：
G02F 1/136 500
, G02F 1/1335 500
G02F 1/136 500
, G02F 1/1335 500
