特許
J-GLOBAL ID：200903029792474725
薄膜磁気ヘッド用スライダーの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-051296
公開番号（公開出願番号）：特開平5-258498
出願日： 1992年03月10日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：
【要約】【目的】スライダーの被加工面以外の所に気相成膜法により形成した有機保護膜を形成し、加工用マスクとしてフィルム材パターンを用いることにより、優れたレール加工精度の達成とスライダーへの損傷をなくすることを目的とする。【構成】空気ベアリング面を呈するレールを有する型の磁気ヘッドスライダーの製造方法であって、スライダーブロック1上に気相成膜法により有機保護膜3を形成する工程とエッチングマスク材を形成し、パターニングする工程と、スライダー面をエッチングする工程と、最後に、マスク材と保護膜を除去する工程とよりなる。
請求項（抜粋）：
イオンミリング法、ドライエッチング法あるいはサンドブラスト法にて、空気ベアリング面を呈するレールを有する型の薄膜磁気ヘッド用スライダーの製造方法であって、スライダーレール面を加工する際に、加工用治具にスライダーブロックを固定した後、前記スライダーの被加工面以外の面がエッチングによる損傷等を受けることを防止するために、気相成膜法により有機保護膜を設け、かつ、エッチングに際してはフィルムマスク材を用いて加工することを特徴とする薄膜磁気ヘッド用スライダーの製造方法。
IPC (2件)：
G11B 21/21 101
, G11B 5/60
