特許

J-GLOBAL ID：200903029827439839

真空処理装置

発明者： 掛樋 豊 ,  仲里 則男 ,  福島 喜正 ,  平塚 幸哉 ,  柴田 史雄 ,  山本 則明 ,  坪根 恒彦
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高田 幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-325078
公開番号（公開出願番号）：特開平9-172058
出願日： 1983年11月28日
公開日（公表日）： 1997年06月30日
要約：

【要約】【課題】静電吸着力を用いた真空処理装置の試料保持方法として、大きな静電吸着力を必要とせずに、基板を吸着、保持する試料保持方法を提供する。【解決手段】真空処理室10内の下部電極20に設けられた試料台に、真空処理する試料50を静電吸着・保持し、この試料50の裏面に、ガス供給路23aを介して試料台との間の伝熱ガスを供給する。この伝熱ガスを分散させるために試料台の表面には、試料台が、放射状分散溝21aや円周状分散溝21bが設けられている。

請求項（抜粋）：

処理される試料を静電吸着力で真空処理室内の試料台に吸着保持し、前記吸着保持した前記試料の裏面と前記試料台との間の隙間に伝熱ガスを供給しながら前記試料を真空処理する真空処理装置において、前記吸着保持された前記試料の中心部に相当する位置から周辺に向かって放射状に伸びる前記伝熱ガスを供給する複数の放射状溝を前記試料台が備えていることを特徴とする真空処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065

FI (3件)：

H01L 21/68 R ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/302 B