特許
J-GLOBAL ID:200903029832788469

放射線感応性樹脂組成物およびそれを用いたレジストパターンの形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大垣 孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-124937
公開番号(公開出願番号):特開平8-320562
出願日: 1995年05月24日
公開日(公表日): 1996年12月03日
要約:
【要約】【目的】 現有のアルカリ現像装置を用いて放射線露光および現像できる放射線感応性樹脂組成物を提供する。【構成】 放射線感応性樹脂組成物は、アルカリ可溶性のフェノール樹脂と、単量体単位毎にC-O-Si結合を有するポリ(シロキサン)と、放射線の作用により分解して酸を発生する酸発生剤とを含む。
請求項(抜粋):
アルカリ可溶性のフェノール樹脂と、単量体単位毎にC-O-Si結合を有するポリ(シロキサン)と、放射線の作用により分解して酸を発生する酸発生剤とを含むことを特徴とする放射線感応性樹脂組成物。
IPC (10件):
G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/26 511 ,  G03F 7/38 511 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/312
FI (12件):
G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/26 511 ,  G03F 7/38 511 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/312 A ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 568 ,  H01L 21/30 573 ,  H01L 21/302 H

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