特許
J-GLOBAL ID：200903029835734092
プラズマ処理装置のパラメータ監視システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-086895
公開番号（公開出願番号）：特開平5-291188
出願日： 1992年04月08日
公開日（公表日）： 1993年11月05日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】プラズマ処理室への処理生成物の付着、温度上昇、部品の劣化等による処理特性の経時変化をリアルタイムで発見し、自動的に不良を防止するシステムを駆使することで、工程日数の大幅削減を図る。【構成】プラズマ処理装置に、リアルタイムプラズマ解析装置を付設し、それぞれをホストコンピュータ15と接続する。ホストコンピュータ15には、所望の加工形状を得たときの上記各リアルタイムプラズマ解析装置によって得られたデータを標準データとその許容範囲として登録し、更にリアルタイム分析データと登録デ-タを比較あるいは解析し、その結果により装置制御部17に処理続行不可能あるいは処理続行の指示を出す。あるいは、上記装置制御部17に処理続行不可能または設定パラメータ補正の指示を出す。あるいは、上記ホストコンピュータと上記装置制御部との間に設けられた大型コンピュータにより、処理工程の管理を行う。
請求項（抜粋）：
プラズマ処理状態の分析を行うリアルタイムプラズマ解析装置と、プラズマ処理条件の各パラメータにおける標準データを有するホストコンピュータを有し、該ホストコンピュータは上記標準データと上記リアルタイムプラズマ解析装置による分析データとを比較する機能と、上記標準データと上記分析データが異なる場合、上記分析データが上記にほぼ等しくなるように修正をする機能とを有することを特徴とするプラズマ処理装置のパラメータ監視システム。
IPC (5件)：
H01L 21/302
, C30B 25/16
, G01N 21/73
, G01N 27/62
, H01L 21/31
