投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-050842
公開番号（公開出願番号）：特開平6-267818
出願日： 1993年03月11日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：

【要約】【目的】照明条件、レチクルの種類によらず常に正確な結像特性を検出することを目的とする。【構成】投影光学系PLの結像特性を計測する焦点位置検出系(26、23、20)を設ける。そして投影光学系PLの瞳面Epの照明光の強度分布を求め、焦点位置検出系の検出光の強度分布が照明光の強度分布とほぼ等しくなるように、焦点位置検出系の照明条件等を調整する。また、別の方法として瞳面Epにおける照明光の強度分布と検出光の強度分布の差分を演算にて求め、焦点位置検出系の検出結果を補正する。

請求項（抜粋）：

マスク上のパターンを第1照明光で照明する照明光学系と、前記マスクのパターンの前記第1照明光のもとでの像をステージ上に載置した基板上に投影露光する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記ステージ上に設けられた基準面に形成された開口パターンを介して前記マスクに検出用の第2照明光を導き、前記投影光学系を介して前記マスクで反射された該第2照明光を前記開口パターンを介して受光することにより前記投影光学系の結像特性を検出する結像特性検出手段と;前記投影光学系の瞳面における前記マスクを通過した前記第1照明光の強度分布を測定する瞳面強度分布測定手段と;前記瞳面強度分布測定手段の結果に基づき、前記第2照明光の前記投影光学系の瞳面強度分布を設定する照度分布設定手段とを有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G03B 27/72 , G03F 7/20 521 , G03F 7/207 , G03F 9/00

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