特許
J-GLOBAL ID：200903029887354425
溶射装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 義久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-134480
公開番号（公開出願番号）：特開2003-328104
出願日： 2002年05月09日
公開日（公表日）： 2003年11月19日
要約：
【要約】【課題】ワイヤ供給装置を移動させずに溶射できる範囲を拡大し、しかもその範囲内全体で溶射ガンを容易に移動できるようにする。【解決手段】ワイヤ供給装置2と、溶射ガン4と、これらを繋ぐガイドチューブ3とを備え、ワイヤ供給装置2から送り出したワイヤwをガイドチューブ内を通して溶射ガン4に送り込むようになした溶射装置1において、ワイヤ供給装置2が、基台部2bと、この基台部2bに対して、上下方向に沿う一本の縦回転軸2xを介して回転自在に支持されたワイヤ内蔵本体部2Aとからなり、ガイドチューブ3はワイヤ供給装置2のワイヤ内蔵本体部2Aに連結されているものとする。
請求項（抜粋）：
ワイヤ供給装置と、溶射ガンと、これらを繋ぐガイドチューブとを備え、前記ワイヤ供給装置から送り出したワイヤを前記ガイドチューブ内を通して前記溶射ガンに送り込むようになした溶射装置において、前記ワイヤ供給装置は、基台部と、この基台部に対して上下方向に沿う回転中心線周りに回転自在に支持されたワイヤ内蔵本体部とからなり、前記ガイドチューブは前記ワイヤ供給装置のワイヤ内蔵本体部に連結されている、ことを特徴とする溶射装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (8件)：
4F033QA01
, 4F033QB07
, 4F033QB19
, 4F033QG13
, 4F033QG23
, 4K031CA02
, 4K031EA08
, 4K031EA12
