特許
J-GLOBAL ID：200903029897265277
処理液供給方法およびその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-289733
公開番号（公開出願番号）：特開平9-270373
出願日： 1996年10月31日
公開日（公表日）： 1997年10月14日
要約：
【要約】【課題】 処理液が基板に到達したことに基づいて、それ以降の命令を実行することにより、基板に均一な処理を施すことができる。【解決手段】 供給開始命令を含む複数個の命令からなり、予め記憶されている一連の処理を規定する処理プログラムに基づき基板の中心付近に処理液を供給する処理液供給方法において、供給開始命令とともに通常トリガ信号出力命令が実行された時点TS 以降は、基板に処理液が到達したことを示す到達検出信号が出力されたことに基づいてそれ以後の処理プログラムの命令(タイマースタート命令)を実行する。
請求項（抜粋）：
供給開始命令を含む複数個の命令からなり、予め記憶されている一連の処理を規定する処理プログラムに基づき基板の中心付近に処理液を供給する処理液供給方法において、供給開始命令が実行された後、基板に処理液が到達したことに基づいて、それ以後の処理プログラムの命令を実行することを特徴とする処理液供給方法。
IPC (4件)：
H01L 21/02
, B05C 11/10
, G03F 7/30
, H01L 21/027
H01L 21/02 Z
, B05C 11/10
, G03F 7/30
, H01L 21/30 564 Z
, H01L 21/30 569 A
