特許
J-GLOBAL ID:200903029903026158

表面処理剤、表面処理剤組成物、および表面処理された基板

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 泉名 謙治 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-241432
公開番号(公開出願番号):特開平11-080667
出願日: 1997年09月05日
公開日(公表日): 1999年03月26日
要約:
【要約】【課題】水滴転落性等に優れた表面処理剤組成物の提供。【解決手段】-(CH2 )3 C8 F17等の1価含フッ素有機基がSi原子に結合したオルガノシロキサン単位、および、-(CH2 )3 Si(OCH3 )3 等の1価加水分解性有機基等がSi原子に結合したオルガノシロキサン単位を含む化合物(A)および/または該化合物(A)の加水分解生成物を必須成分として含有する表面処理剤、該表面処理剤を含む組成物。
請求項(抜粋):
下記含フッ素シリコーン化合物(A)および/または下記含フッ素シリコーン化合物(A)の加水分解生成物からなる表面処理剤。含フッ素シリコーン化合物(A):下式1で表される1価含フッ素有機基がケイ素原子に結合したオルガノシロキサン単位(A1 )、および、下式2で表される1価含ケイ素有機基がケイ素原子に結合したオルガノシロキサン単位(A2 )を含む含フッ素シリコーン化合物。ただし、式1および式2中の記号は、以下の意味を示す。Rf :エーテル性の酸素原子を含んでいてもよい1価ポリフルオロ炭化水素基。X:炭素-炭素結合間にエーテル性の酸素原子が挿入されていてもよい2価炭化水素基。R1 :1価有機基。Y:加水分解性基、または、イソシアネート基。a:1以上の整数。b:1、2、または3。【化1】-X-Rf ・・・式1-(CH2 )a Si(R1 )3-b (Y)b ・・・式2
IPC (3件):
C09D183/04 ,  C09K 3/00 ,  C09K 3/18 104
FI (3件):
C09D183/04 ,  C09K 3/00 R ,  C09K 3/18 104
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 表面処理剤
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-149401   出願人:東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社

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