特許

J-GLOBAL ID：200903029905070170

レジスト組成物

発明者： 尾家 正行 ,  田中 秀行 ,  阿部 信紀
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： 西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-188138
公開番号（公開出願番号）：特開平5-011441
出願日： 1991年07月02日
公開日（公表日）： 1993年01月22日
要約：

【要約】【目的】 感度、解像度、耐エッチング性および保存安定性などのレジスト特性が優れたレジスト材料を提供すること。【構成】 アルカリ可溶性フェノール樹脂、活性光線の照射により酸を生成する化合物および酸の存在下で架橋する化合物を含有するレジスト組成物において、活性光線の照射により酸を生成する化合物がハロゲン含有多価フェノール化合物であることを特徴とするレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性フェノール樹脂、活性光線の照射により酸を生成する化合物および酸の存在下で架橋する化合物を含有するレジスト組成物において、活性光線の照射により酸を生成する化合物が一般式(I)〜(VII)で示される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のハロゲン含有多価フェノール化合物であることを特徴とするレジスト組成物。一般式(I)【化1】一般式(II)【化2】一般式(III)【化3】一般式(IV)【化4】一般式(V)【化5】一般式(VI)【化6】一般式(VII)【化7】R1〜R8:ハロゲン、水素、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基または置換アルコキシ基。ただし、一般式(I)〜(VII)において、少なくとも1つはハロゲン。R9〜R12:水素、アルキル基。A :単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリーレン基、置換アリーレン基。B :酸素、単結合。

IPC (4件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-052348
  
• 特開平4-367864
  
• 特開平4-367865