特許

J-GLOBAL ID：200903029907661257

投影露光装置

発明者： 内田 玄
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 井上 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-202069
公開番号（公開出願番号）：特開2001-035765
出願日： 1999年07月15日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：

【要約】【課題】 露光領域全面にわたり均一な解像力でパターンを焼き付けることができる投影露光装置、特に走査型の投影露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】 所定のパターンを有するマスク3を照明するための照明光学系1、2と、所定の開口数を有し該マスク上のパターンの像を基板9上に投影する投影光学系8とを有する投影露光装置において、前記パターン像を前記基板に露光している状態において前記開口数を変化させる開口数可変部PC,ASを有する。

請求項（抜粋）：

所定のパターンを有するマスクを照明するための照明光学系と、所定の開口数を有し該マスク上のパターンの像を基板上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記パターン像を前記基板に露光している状態において前記開口数を変化させる開口数可変部を有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521

Fターム (6件)：

5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB05 ,  5F046CB25 ,  5F046DA12 ,  5F046DD03